Ingenieros chinos intentaron desarmar equipos DUV de ASML para estudiarlos, los dañaron y luego pidieron ayuda a la propia empresa
En un curioso y polémico incidente, técnicos de la industria de semiconductores en China habrían intentado “revertir la ingeniería” de una máquina de litografía DUV de ASML, dañándola irreversiblemente en el proceso. Irónicamente, el personal terminó pidiendo asistencia técnica a la propia empresa neerlandesa para reparar el equipo.
Según un reporte publicado por The National Interest, el incidente refleja la presión que enfrenta el sector chino de semiconductores ante las restricciones de exportación impuestas por Estados Unidos y Países Bajos, las cuales limitan su acceso a equipos de litografía avanzada. Empresas como SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) llevan años intentando incrementar su capacidad de producción, pero la ausencia de maquinaria EUV (Extreme Ultraviolet) y la dependencia de sistemas DUV antiguos han frenado su progreso.
De acuerdo con la información, el grupo de ingenieros chinos intentó desmontar uno de los sistemas DUV más antiguos de ASML, con el objetivo de analizar su estructura interna y entender sus procesos de calibración. Sin embargo, al intentar volver a ensamblarlo, el equipo quedó inoperativo. Ante la magnitud del daño, los responsables contactaron directamente a ASML para solicitar soporte técnico.
Cuando los técnicos de la firma neerlandesa llegaron a las instalaciones en China, descubrieron que el equipo no había fallado por una avería normal, sino por una manipulación interna que violaba los protocolos de mantenimiento. Fuentes citadas en el informe señalan que ASML rápidamente identificó los intentos de desensamblaje, confirmando que el daño fue consecuencia directa del intento de reconstruir el sistema.
La situación, además de inusual, subraya la complejidad de los equipos DUV (Deep Ultraviolet), cuya tecnología depende de sistemas ópticos y de alineación extremadamente precisos. Cada unidad está calibrada con rutinas internas únicas y componentes patentados que solo ASML puede reemplazar o ajustar. Por ello, cualquier intento de desmontaje sin autorización termina comprometiendo su estructura de manera irreversible.
Si bien China ha avanzado en el desarrollo de herramientas de litografía doméstica, sus máquinas aún no alcanzan la precisión y el rendimiento de las producidas por ASML. La empresa neerlandesa mantiene un dominio prácticamente absoluto en el sector, y sus equipos —tanto DUV como EUV— son considerados críticos para la fabricación de chips avanzados de 5 nm y menores.
Por el momento, ASML no ha emitido un comunicado oficial sobre este supuesto incidente, pero la historia se ha viralizado entre analistas del sector como ejemplo de la brecha tecnológica que aún separa a China de los líderes mundiales en fabricación de semiconductores.
Fuente: WCCFTech
